普樂斯等離子清洗設備行業(yè)觀察，3納米已漸行漸近

來源：普樂斯瀏覽：次發(fā)布日期：2020-01-16 09:23【大中小】

文章導讀：普樂斯等離子清洗設備行業(yè)觀察，大家都知道，制程越小，晶體管柵極越窄，功耗越低，而集成難度和研發(fā)成本也將加倍提升。3nm是一個將近物理ji限的節(jié)點，這需要產(chǎn)業(yè)鏈各個環(huán)節(jié)的努力。

普樂斯等離子清洗設備行業(yè)觀察，身為摩爾定律忠實的跟隨者與倡導者，臺積電、三星已經(jīng)挑起3nm的戰(zhàn)局。據(jù)了解，三星已經(jīng)完成了第1個3nm制程的開發(fā)，準備2022年規(guī)模生產(chǎn)3nm芯片，先前臺積電也準備2022年量產(chǎn)3nm。如果沒有意外，3nm芯片將在后年來臨，對半導體產(chǎn)業(yè)鏈提出新的挑戰(zhàn)。

有報道稱，三星已成功研發(fā)出第1個基于GAAFET的3nm制程，預估2022年進入量產(chǎn)。與7nm工藝相比，3nm工藝可將核心面積減少45%，功耗降低50%，性能提升35%。按照三星的研發(fā)路線圖，在6nmLPP之后，還有5nmLPE、4nmLPE兩個節(jié)點，隨后進入3nm節(jié)點，分為GAE(GAAEarly)以及GAP(GAAPlus)兩代。去年5月，三星的3nmGAE設計套件0.1版本已經(jīng)就緒，以協(xié)助客戶盡快啟動3nm設計。三星預估該技術將在下一代手機、網(wǎng)絡、自動駕駛、人工智能及物聯(lián)網(wǎng)等設備中應用。

以2022年量產(chǎn)為目標的臺積電，也在按計劃推進3nm研發(fā)。臺積電ceoCCWei曾表示，臺積電在3nm節(jié)點技術開發(fā)進展順利，已經(jīng)與早期客戶進行接觸。臺積電投資6000億新臺幣的3nm寶山廠也于去年通過了用地申請，預估2020年動工，2022年量產(chǎn)。

臺積電在7nm節(jié)點取得了jue對優(yōu)勢，在5nm也進展順利，獲得了蘋果A14等訂單。但三星并沒有放松追逐的腳步，準備到2030年前在半導體業(yè)務投資1160億美元，以增強在非內(nèi)存芯片市場的實力。臺積電創(chuàng)始人張忠謀此前對媒體表示，臺積電與三星的戰(zhàn)爭都還沒結(jié)束，臺積電僅僅贏得了一兩場戰(zhàn)役，可整個戰(zhàn)爭都還沒贏，目前臺積電暫時占優(yōu)。

本文來源：中國電子報作者：張心怡
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