中国美妞儿快奚视频-美女操逼视频大全-欧美最爱日逼逼的人-人人妻人人澡人人爽的公开视频

您好,歡迎訪問(wèn)昆山普樂(lè)斯電子科技有限公司官方網(wǎng)站! 收藏普樂(lè)斯|在線留言|HTML地圖|XML地圖|English

普樂(lè)斯電子

普樂(lè)斯15年專(zhuān)注等離子清洗機(jī)研制低溫等離子表面處理系統(tǒng)方案解決商

業(yè)務(wù)咨詢(xún)熱線:400-816-9009免費(fèi)等離子清洗機(jī)處理樣品

熱門(mén)關(guān)鍵字:應(yīng)用方案 大氣等離子清洗機(jī) 真空等離子清洗機(jī) 等離子清洗機(jī)廠家

當(dāng)前位置普樂(lè)斯首頁(yè) > 普樂(lè)斯資訊 > 行業(yè)資訊 >

與硅晶圓相比,SiC晶圓的生產(chǎn)難點(diǎn)在哪里?

返回列表 來(lái)源:半導(dǎo)體行業(yè)觀察 瀏覽: 發(fā)布日期:2021-08-05 09:26【
文章導(dǎo)讀:當(dāng)前,以硅基為材料的晶圓已經(jīng)開(kāi)始從8英寸邁向了12英寸,當(dāng)前環(huán)境下,與硅晶圓相比,SiC晶圓的生產(chǎn)難點(diǎn)會(huì)在哪里?普樂(lè)斯小伙伴給大家收集了一些資料,一起來(lái)看一下。
     當(dāng)前,以硅基為材料的晶圓已經(jīng)開(kāi)始從8英寸邁向了12英寸,當(dāng)前環(huán)境下,與硅晶圓相比,SiC晶圓的生產(chǎn)難點(diǎn)會(huì)在哪里?普樂(lè)斯小伙伴給大家收集了一些資料,一起來(lái)看一下。
 
普樂(lè)斯
 
     據(jù)介紹:“與硅材料芯片相比,8英寸和6英寸SiC生產(chǎn)的主要差別在高溫工藝上,例如高溫離子注入,高溫氧化,高溫激活等,以及這些高溫工藝所需求的hard mask(硬掩模)工藝等。”而高溫工藝關(guān)乎著SiC的良率,這也是各大SiC廠商所著力研發(fā)的關(guān)鍵環(huán)節(jié)之一。
 
     除了與硅晶圓在生產(chǎn)工藝上有所差異以外,在SiC從6英寸向8英寸發(fā)展的過(guò)程中也存在著一些差異。“在功率半導(dǎo)體制造的離子注入、薄膜沉積、介質(zhì)刻蝕、金屬化等環(huán)節(jié),8英寸碳化硅與6英寸SiC的差距不大。”某博士指出:“8英寸SiC的制造難點(diǎn)主要集中在襯底生長(zhǎng)、襯底切割加工、氧化工藝。其中,襯底生長(zhǎng)方面,擴(kuò)徑到8英寸,對(duì)襯底生長(zhǎng)的難度會(huì)成倍增加;襯底切割加工方面,越大尺寸的襯底切割應(yīng)力、翹曲的問(wèn)題越顯著;氧化工藝一直是碳化硅工藝中的核心難點(diǎn),8英寸、6英寸對(duì)氣流和溫場(chǎng)的控制有不同需求,工藝需各自獨(dú)立開(kāi)發(fā)。”
 
     顯然,SiC向更大晶圓面積發(fā)展的路并不好走,在這一點(diǎn)上,從SiC從4英寸走向6英寸的過(guò)程中便可略窺一二——據(jù) Yole 預(yù)測(cè)數(shù)據(jù)顯示,2020 年4英寸SiC晶圓接近 10 萬(wàn)片,而 6英寸晶圓市場(chǎng)需求已超過(guò)8萬(wàn)片,預(yù)計(jì)將在2030年逐步超越4英寸晶圓。
 
     本文來(lái)自于半導(dǎo)體行業(yè)觀察,如有侵權(quán),
請(qǐng)聯(lián)系管理員,我們將予以刪除。

     普樂(lè)斯電子12年專(zhuān)注研制等離子清洗機(jī),等離子體清洗機(jī),等離子清洗設(shè)備,常壓大氣和低壓真空型低溫等離子表面處理設(shè)備,大氣低溫等離子體表面處理系統(tǒng),大氣常壓收放卷等離子表面設(shè)備處理,已通過(guò)ISO9001質(zhì)量體系和歐盟CE認(rèn)證,為電子、半導(dǎo)體、汽車(chē)、yi療等領(lǐng)域的客戶(hù)提供清洗、活化、刻蝕、涂覆的等離子表面處理解決方案,是行業(yè)內(nèi)值得信賴(lài)的等離子清洗機(jī)廠家。如果您想要了解更多關(guān)于產(chǎn)品的詳細(xì)內(nèi)容或在設(shè)備使用中有疑問(wèn),歡迎點(diǎn)擊普樂(lè)斯的在線客服進(jìn)行咨詢(xún),或者直接撥打全國(guó)統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009,普樂(lè)斯隨時(shí)恭候您的來(lái)電!

普樂(lè)斯推薦

  • USC干式超聲波除塵設(shè)備 高壓旋風(fēng)除塵PLS-X系列介紹

    產(chǎn)品名稱(chēng):USC干式超聲波除塵設(shè)備 高壓旋風(fēng)除塵PLS-X系列介紹
    1)能有效去除大于3μm的顆粒
    2)不需要高純水和化學(xué)藥劑等,同時(shí)不需要后續(xù)烘干工藝
    3)設(shè)備維護(hù)簡(jiǎn)單,只需進(jìn)行簡(jiǎn)單的清洗和更換
    4)沿噴嘴線性均衡的超聲波使得工件橫向清洗性能保持一致
    5)非接觸式的清洗方式避免損壞工
    6)閉環(huán)系統(tǒng)不會(huì)破壞生產(chǎn)車(chē)間(潔凈室)的氣流平衡

  • 小型等離子清洗機(jī) 實(shí)驗(yàn)型等離子清洗機(jī) 半導(dǎo)體活化刻蝕 pr5L

    產(chǎn)品名稱(chēng):小型等離子清洗機(jī) 實(shí)驗(yàn)型等離子清洗機(jī) 半導(dǎo)體活化刻蝕 pr5L
    ‌實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)‌是一種利用等離子體技術(shù)進(jìn)行表面處理的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于科研和工業(yè)制造領(lǐng)域。

  • 真空等離子清洗機(jī) 等離子表面處理機(jī) 表面處理改性PM-20LN

    產(chǎn)品名稱(chēng):真空等離子清洗機(jī) 等離子表面處理機(jī) 表面處理改性PM-20LN
    真空等離子清洗機(jī)作為一種高效、無(wú)介質(zhì)的表面處理設(shè)備,具有廣泛的應(yīng)用前景。其工作原理基于等離子體在真空環(huán)境中產(chǎn)生的化學(xué)反應(yīng)和物理效應(yīng),具有高效清洗、無(wú)介質(zhì)清洗、可選擇性清洗、表面改性和自動(dòng)化操作等優(yōu)勢(shì)。

  • 實(shí)驗(yàn)型等離子清洗機(jī) 小型真空等離子處理設(shè)備PLAUX-PR-10L

    產(chǎn)品名稱(chēng):實(shí)驗(yàn)型等離子清洗機(jī) 小型真空等離子處理設(shè)備PLAUX-PR-10L

    ‌高效徹底‌:能夠深入微納米級(jí)孔隙中,徹底清除難以觸及的污染物。

    ‌環(huán)保節(jié)能‌:無(wú)需使用化學(xué)溶劑,減少?gòu)U水廢氣排放,符合綠色生產(chǎn)要求,且能耗低。

    ‌廣泛適用‌:適用于多種材料表面,包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等,不會(huì)對(duì)材料性能產(chǎn)生負(fù)面影響。

    ‌工藝可控‌:通過(guò)調(diào)整工作氣體種類(lèi)、壓力、功率等參數(shù),可精確控制清洗過(guò)程‌。


  • 普樂(lè)斯非接觸式除塵設(shè)備 usc干式除塵設(shè)備pls-c系列

    產(chǎn)品名稱(chēng):普樂(lè)斯非接觸式除塵設(shè)備 usc干式除塵設(shè)備pls-c系列
    在材料及產(chǎn)品生產(chǎn)、加工、轉(zhuǎn)運(yùn)的過(guò)程中,材料表面由于存在靜電,表面會(huì)自帶或吸附微塵,影響成品質(zhì)量。隨著各行業(yè)表面潔 凈度要求不斷提高,對(duì)微小雜質(zhì)和粉塵的去除愈加重要。非接觸表面清潔有無(wú)接觸、設(shè)備小、成本低、耗材少、易實(shí)施等優(yōu)點(diǎn),近年 來(lái)在各個(gè)行業(yè)均有較快的發(fā)展。

行業(yè)資訊

最新資訊文章