2005年6月, 蘇州晶方半導(dǎo)體科技股份有限公司（SSE：603005）成立于蘇州，是一家致力于開發(fā)與創(chuàng)新新技術(shù)，為客戶提供可靠的，小型化，高性能和高性價比的半導(dǎo)體封裝量產(chǎn)服務(wù)商。晶方科技的CMOS影像傳感器晶圓級封裝技術(shù)，徹底改變了封裝的世界，使高性能，小型化的手機相機模塊成為可能。這一價值已經(jīng)使之成為有史以來應(yīng)用最廣泛的封裝技術(shù)，現(xiàn)今已有近50％的影像傳感器芯片可使用此技術(shù)，大量應(yīng)用于智能電話，平板電腦，可穿戴電子等各類電子產(chǎn)品。公司及子公司Optiz Inc.（位于Palo Alto，加州）將持續(xù)專注于技術(shù)創(chuàng)新。


普樂斯與晶方半導(dǎo)體的合作始于2011年，至今已經(jīng)有7年！雙方的合作是基于晶方半導(dǎo)體國產(chǎn)化的需求，同時對普樂斯等離子技術(shù)實力的認可。通過雙方溝通，普樂斯了解到以下一些情況：

1、晶方半導(dǎo)體使用等離子清洗設(shè)備的主要目的：晶圓表面particle去除；焊錫球前焊盤的清洗，增加植球前的推力；硅片玻璃光刻膠去除和微刻蝕，以增加滾膠前結(jié)合力等。

2、晶方半導(dǎo)體已有幾臺進口等離子清洗設(shè)備，包括美國和韓國等離子清洗設(shè)備，運行比較穩(wěn)定，但是由于通過等離子設(shè)備代理商購買，所以維護保養(yǎng)費用高而服務(wù)比較滯后。

3、根據(jù)晶方半導(dǎo)體產(chǎn)品的特點和產(chǎn)能需求，常規(guī)設(shè)備滿足不了要求，需特殊設(shè)置和定制，而國外等離子清洗設(shè)備廠家顯然難以配合。
 
事實上，普樂斯之前很少接觸半導(dǎo)體行業(yè)，大多數(shù)小伙伴連晶圓和芯片都分不清楚，更不用說對工藝流程、處理參數(shù)和效果判定等的了解！勇于創(chuàng)新是普樂斯的特點，全力配合晶方半導(dǎo)體研制新型等離子清洗設(shè)備是普樂斯義不容辭的責(zé)任和榮幸。
 
普樂斯做了兩件事：一方面，提供樣機給晶方半導(dǎo)體做測試，抓參數(shù)，學(xué)工藝；另一方面，分析產(chǎn)品特點和處理要求，與晶方半導(dǎo)體相關(guān)人員隨時互動，無論是電極設(shè)計、材料選型，還是人機界面的優(yōu)化，都虛心聽取意見，不斷優(yōu)化等離子清洗機解決方案。因此，普樂斯學(xué)到了不少專業(yè)知識，少走許多彎路，對半導(dǎo)體行業(yè)設(shè)備的要求有了基本認識，例如：

1、Particle的預(yù)防和去除。無論什么級別的潔凈室，都會存在particle，是造成產(chǎn)品缺陷的主要原因之一。等離子清洗設(shè)備在處理腔室、電極、配件等材料選擇，托架和電極結(jié)構(gòu)等設(shè)計，維護保養(yǎng)的要求，方方面面都必須考慮盡可能避免產(chǎn)生新的particle。

2、等離子均勻性。氣路、電極結(jié)構(gòu)、托架樣式、工藝參數(shù)等會影響產(chǎn)品處理的一致性。

3、設(shè)備穩(wěn)定性。半導(dǎo)體產(chǎn)品的產(chǎn)能和附加值都很高，對設(shè)備的UPH（單位小時產(chǎn)能）指標非?？粗亍ＴO(shè)備配置的選型和兼容，甚至軟件的程序的編寫，都會影響穩(wěn)定性。
 
經(jīng)過大家兩個多月的共同努力，晶方半導(dǎo)體定制的等離子清洗設(shè)備終于成功交付，等離子處理效果完全可以滿足產(chǎn)品和工藝的要求！相關(guān)樣品處理后效果測試舉例：

1、硅片處理水滴角變化

等離子處理前52.76℃	等離子處理后3.62℃

2、玻璃處理水滴角變化

等離子處理前25.38℃	等離子處理前4.41℃

對于晶方半導(dǎo)體當初的選擇，普樂斯一直心存感激；尤其是晶方半導(dǎo)體幾位高層能給普樂斯試錯機會的魄力，普樂斯向您們致敬！普樂斯會不斷學(xué)習(xí)半導(dǎo)體知識，了解行業(yè)動態(tài)，利用所掌握的等離子技術(shù)接合客戶需求，研制出更多符合半導(dǎo)體行業(yè)特點的等離子清洗設(shè)備，提供更好的服務(wù)給與回饋！
 
親，如果您對等離子清洗機感興趣或者想了解更多詳細信息，歡迎點擊普樂斯的在線客服進行咨詢，或者直接撥打全國統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009，普樂斯恭候您的來電！